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冷卻加熱循環(huán)器-70℃ ~ 250℃

簡要描述:應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。冷卻加熱循環(huán)器-70℃ ~ 250℃

  • 產品型號:SUNDI-735WN
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-12-26
  • 訪  問  量:1479
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞產地類別國產
應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產業(yè),電子/電池



無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/




冷卻加熱循環(huán)器-70℃ ~ 250℃

冷卻加熱循環(huán)器-70℃ ~ 250℃


  醫(yī)藥化工高低溫循環(huán)裝置是采用機械制冷獲取低溫加熱管加熱獲取高溫,采用無泄漏的屏蔽泵作為循環(huán)泵,配合不銹鋼夾層反應釜等設備使用的設備。

  醫(yī)藥化工高低溫循環(huán)裝置采用由循環(huán)風機吸取工作室內空氣,吸入風道內,經過發(fā)熱元件,加熱空氣后將熱空氣由兩側面風道均勻的吹入工作室同工件進行熱交換。再回到工作室頂部吸入頂部風道,構成一個強制對流循環(huán)。如此反復循環(huán),使得溫度升高。

  醫(yī)藥化工高低溫循環(huán)裝置均采用靠譜不銹鋼:具有良好的低溫強度,耐蝕性、耐熱性和機械特性;沖壓、彎曲等熱加工性好,無熱處理硬化現象。

  醫(yī)藥化工高低溫循環(huán)裝置整機使用電源三相380V,功率根據尺寸大小及溫度范圍而定。穩(wěn)定平衡的加熱能力,調節(jié)溫度環(huán)境,進行高穩(wěn)定的溫度控制具有隨溫度的設定數值自動選擇運轉制冷回路的功能,操作簡單,使用方便。

醫(yī)藥化工高低溫循環(huán)裝置廣泛應用于制藥,化工反應釜等各行各業(yè)。從廣義方面講,叫溫度控制設備,或控溫設備。包含油加熱或水加熱兩個方面的溫度控制。






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