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應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫內(nèi)部循環(huán)裝置-100℃～100℃

應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。動態(tài)密閉制冷加熱循環(huán)裝置-100℃～100℃